Гафний тетрахлориді | HfCl4 ұнтағы | CAS 13499-05-3 | зауыт бағасы

Қысқаша сипаттама:

Гафний тетрахлориді гафний оксидінің прекурсоры, органикалық синтез катализаторы, ядролық қолдану және жұқа қабықша тұндыру ретінде маңызды қолданбаларға ие, бұл оның әмбебаптығы мен әртүрлі технологиялық салалардағы маңыздылығын көрсетеді.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Бізге электрондық поштаны жіберіңіз

Өнімнің егжей-тегжейі

Өнім тегтері

Өнім сипаттамасы

Қысқаша кіріспе

Өнім атауы: Гафний тетрахлориді
CAS №: 13499-05-3
Құрама формуласы: HfCl4
Молекулалық салмағы: 320,3
Сыртқы түрі: ақ ұнтақ

Техникалық сипаттама

Элемент	Техникалық сипаттама
Сыртқы түрі	Ақ ұнтақ
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200ppm
Fe	≤40ppm
Ti	≤20ppm
Si	≤40ppm
Mg	≤20ppm
Cr	≤20ppm
Ni	≤25ppm
U	≤5ppm
Al	≤60ppm

Қолданба

Гафний диоксиді прекурсоры: Гафний тетрахлориді, ең алдымен, тамаша диэлектрлік қасиеттері бар материал, гафний диоксиді (HfO2) алу үшін прекурсор ретінде пайдаланылады. HfO2 жартылай өткізгіштер өнеркәсібіндегі транзисторлар мен конденсаторлар үшін жоғары к-диэлектрлік қосымшаларда кеңінен қолданылады. HfCl4 гафний диоксидінің жұқа қабықшаларын қалыптастыру қабілетіне байланысты жетілдірілген электронды құрылғыларды өндіруде өте маңызды.
Органикалық синтез катализаторы: Гафний тетрахлориді әртүрлі органикалық синтез реакцияларының, әсіресе олефиннің полимерленуінің катализаторы ретінде пайдаланылуы мүмкін. Оның Льюис қышқылының қасиеттері белсенді аралық өнімдерді қалыптастыруға көмектеседі, осылайша химиялық реакциялардың тиімділігін арттырады. Бұл қолдану химия өнеркәсібінде полимерлер мен басқа органикалық қосылыстарды өндіруде құнды.
Ядролық қолдану: Нейтронды сіңіру қимасының жоғары болуына байланысты гафний тетрахлориді ядролық қолданбаларда, әсіресе ядролық реакторлардың басқару таяқшаларында кеңінен қолданылады. Гафний нейтрондарды тиімді сіңіре алады, сондықтан ол атом энергиясын өндірудің қауіпсіздігі мен тиімділігін арттыруға көмектесетін бөліну процесін реттеу үшін қолайлы материал болып табылады.
Жұқа пленканың тұнбасы: Гафний тетрахлориді гафний негізіндегі материалдардан жұқа қабықшаларды қалыптастыру үшін химиялық бу тұндыру (CVD) процестерінде қолданылады. Бұл пленкалар микроэлектроника, оптика және қорғаныс жабындарын қоса алғанда, әртүрлі қолданбаларда өте қажет. Біркелкі, жоғары сапалы пленкаларды салу мүмкіндігі HfCl4-ті озық өндіріс процестерінде құнды етеді.